Berhentilah menunggu proses pengeringan wafer: Mengapa IR lebih unggul daripada udara panas
Jika Anda pernah terlibat dalam proses pemrosesan semikonduktor yang kompleks, tentu Anda tahu bahwa tahap pembersihan merupakan tahap yang memperlambat seluruh prosesnya. Ini merupakan titik kendala klasik dalam proses produksi semikonduktor.
Saya masih sering melihat bengkel-bengkel yang menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer. Memang cara ini efektif, tetapi prosesnya sangat lambat. Jika Anda beralih ke lampu inframerah yang tahan air, maka Anda sebenarnya sedang mengubah aturan mainnya.
Mari bicara soal waktu
Udara panas bekerja berdasarkan prinsip konveksi. Udara dipanaskan, lalu ditiupkan ke permukaan wafer. Anda harus menunggu hingga kelembapan di permukaan wafer menguap, dan proses ini membutuhkan waktu yang lama.
Sebaliknya, IR menggunakan energi radiasi. Panasnya merambat secara langsung ke permukaan wafer, sehingga proses pengeringan hanya membutuhkan beberapa detik saja. Dengan demikian, waktu pengeringan menjadi jauh lebih singkat, sehingga ruang yang dibutuhkan untuk proses pengeringan pun menjadi lebih sedikit.
Mengatasi masalah kelembapan
Masalahnya adalah tahap pembersihan membutuhkan kondisi yang lembap. Jika kita menggunakan lampu IR biasa, filamen lampu tersebut akan rusak begitu ada tetes air yang mengenai permukaan kuarsa yang panas. Itu merupakan bencana.
Itulah sebabnya kita menggunakan lampu yang memiliki lapisan pelindung tahan air dan lapisan khusus lainnya. Lampu-lampu ini dapat digunakan di area berkelembapan tinggi tanpa membuat filamen lampu rusak. Selain itu, lampu IR bereaksi dengan cepat. Oven berudara panas membutuhkan waktu yang lama untuk memanaskan atau mendinginkan suhu. Sedangkan IR dapat dihidupkan atau dimatikan dalam sekejap. Anda hanya perlu sistem kontrol yang baik agar semuanya berjalan dengan tepat.
Kelemahan
Namun, IR bukanlah solusi yang sempurna. Energi panas yang dihasilkan oleh IR sangat tinggi. Hal ini bagus untuk mempercepat proses pengeringan, tetapi substrat yang digunakan perlu mampu menahan panas tersebut. Jika daya yang digunakan terlalu tinggi atau lampu dipasang terlalu dekat dengan wafer, wafer akan rusak. Anda perlu menghabiskan waktu untuk menyetel ketinggian dan daya lampu agar sesuai dengan ketebalan material yang digunakan.
Beralih dari penggunaan udara panas ke IR bukan sekadar mengganti komponen saja. Ini merupakan cara baru dalam memandang proses produksi semikonduktor. Wafer akan diproses lebih cepat, tetapi pastikan sistem pendinginan mampu mengikuti kecepatan proses tersebut.