On the fab floor, photoresist bake isn’t optional—it’s a thermal commitment. A 1.5°C drift across the wafer is enough to turn critical...

על רצפת המפעל, זמינות 24/7 אינה מטרה. זו עלות הכניסה. סטייה בטמפרטורה אחת במהלך אפיית photoresist רכה או קשה עלולה להרוס את כל הסדרה. לכן אנו משתמשים...

על הקו, השעון אינו המלצה — הוא הגבול. לאחר spin-coat, הוויפר יושב עם שכבת פוטורזיסט דקה שצריכה לעבור תהליך התנאי וייבוש לפני החשיפה. אפייה רכה שאינה...