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		<title>300 Mm on Infrared Heating Applications</title>
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				<title>Chaleur uniforme pour wafer IR de 300 mm</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Chaleur uniforme pour wafer IR de 300 mm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne de 300 mm, on peut sentir que le profil de cuisson commence à dévier. Les largesurs des lignes évoluent, et on observe l’apparition de traces indésirables après le développement. Lorsque la zone chaude lutte contre les paramètres prédéfinis, cela entraîne une consommation excessive de réactif de photosensibilisation – ce qui affecte négativement la qualité du produit fini. Nous avons conçu notre système à infrarouges pour empêcher cette situation avant même qu’elle ne se produise.&lt;/p&gt;</description>
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