Sur le plan de fabrication, le processus de séchage du photorésist n’est pas une simple pause dans le processus de production. C’est plutôt un point de contrôle essentiel dont on ne peut pas se passer. Une déviation de 1°C pendant le séchage peut entraîner des écarts importants dans les dimensions critiques des composants, ainsi que des irrégularités au niveau des bords des lignes tracées par le photorésist. Nous avons conçu notre lampe de séchage à lumière Deep UV pour maintenir la température au niveau requis par le processus – et non pas au niveau indiqué par la lampe elle-même. Ce qui est important, c’est la reproductibilité du processus sous charge. La lampe permet de maintenir une uniformité de température sur toute la surface de séchage, avec une précision de ±0,1°C. Cela permet une évaporation homogène du solvant et un comportement cohérent du photorésist. Le profil de sortie de la lumière est adapté aux caractéristiques chimiques du photorésist à lumière DUV ; en outre, la réponse thermique rapide permet de réduire le temps de séchage sans pour autant perdre le contrôle sur ce dernier. La compatibilité avec les salles propres n’est pas une fonction supplémentaire : elle fait partie intégrante de la conception du dispositif. Dans les environnements de classe 1–100, il n’y a aucune génération de particules provenant de la source thermique. De plus, le système fonctionne 24/7, sans interruption imprévue, dans les installations validées. Les avantages sont donc mesurables : on obtient une précision de température élevée lors du séchage du photorésist, ce qui réduit les écarts dimensionnels et les retouches nécessaires. La consommation d’énergie est également réduite, et les émetteurs ayant une longue durée de vie permettent de réduire le nombre de pièces de rechange et les interventions de maintenance. Il s’agit d’une solution éprouvée, conforme aux normes internationales pour les équipements de semi-conducteurs : même performance thermique, sans obligation d’utiliser uniquement des produits d’un seul fournisseur. Un point important à considérer : l’uniformité thermique dépend de la géométrie de la chambre de séchage et de la manière dont la plaque est positionnée à l’intérieur. Les meilleurs résultats sont obtenus lorsque la lampe est adaptée aux caractéristiques spécifiques de la chambre de séchage, et lorsque la procédure de séchage est optimisée en fonction du nouveau profil de température. Nous fournissons des données d’interface et des notes d’utilisation afin que les changements puissent être mesurés, et non deviner.