<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>CMP on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/fa/tags/cmp/</link>
		<description>Recent content in CMP on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/fa/tags/cmp/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>گرمکن خشککن ویفر پس از CMP</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/fa/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/fa/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;گرمکن خشککن ویفر پس از CMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در خط تولید، ویفرهایی که پس از فرآیند CMP از محلول‌های مورد استفاده خارج می‌شوند، هنوز دارای قطرات ریزی روی سطح خود هستند؛ بنابراین این ویفرها در واقع آماده برای استفاده هستند. نشانه‌های ناشی از وجود آب، تجمع مجدد مواد روی سطح وافر، و فروپاشی الگوهای روی سطح ویفر، معمولاً در مراحل بعدی، یعنی هنگام لیتوگرافی و اتاقه‌کردن سطح ویفر، ظاهر می‌شوند. دستگاه گرمایشی، صرفاً یک وسیله کمکی نیست؛ بلکه آخرین مرحله گرمایشی قبل از خروج ویفر از دستگاه CMP است.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
