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		<title>Difusión on Infrared Heating Applications</title>
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				<title>Lámpara de horno de difusión para semiconductores</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Lámpara de horno de difusión para semiconductores&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la planta de fabricación, el horno no es una caja negra. Es un límite térmico estrictamente controlado. Si el conjunto de lámparas comienza a rendir por debajo de lo esperado, el mapa de temperatura a lo largo del wafer se desplaza. Los perfiles del fotoresistente cambian. La variación en el espesor del óxido se amplía. El rendimiento cae, de forma silenciosa y en las cifras.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Construimos lámparas para hornos de difusión por una sola razón: &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;entregar&lt;/a&gt; calor estable y repetible donde el proceso lo requiere, sin aumentar el riesgo de contaminación. La lámpara es la interfaz entre la energía eléctrica y el presupuesto térmico del wafer. Debe ser precisa, limpia y confiable, turno tras turno.&lt;/p&gt;</description>
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