Heizelemente für Extreme UV (EUV) Resistenzen

Sun, 05 Jul 2026 13:15:47 +0800

Extreme UV-Heizung: Die ehrliche Ingenieurslösung
Wir entwickeln unsere Heizgeräte für die EUV-Verarbeitung, um mit den bekannten amerikanischen und japanischen Marken mithalten zu können. Der Unterschied? Wir liefern denselben Leistungsniveau – doch ohne dass dies zu hohen Kosten führt.

Wir verzichten dabei keinesfalls auf physikalische Prinzipien. Für die Lithografie und den Auftrag von Resiststoffen ist eine zuverlässige und konstante Wärmeversorgung unerlässlich. Genau das bieten wir Ihnen. Wir stimmen Leistungsstärke, Spannung und Geometrie genau ab, sodass die Lampen stundenlang zuverlässig arbeiten können, ohne Leistungsabfälle.

Lampe zum Aushärten von Deep UV (DUV) Resistenzen

Sun, 28 Jun 2026 06:08:51 +0800

In der Fertigungshalle stellt das Trocknen des Fotolacks keine „Pause“ dar. Es handelt sich dabei um einen Kontrollpunkt, den man nicht einfach überspringen kann.
Eine Abweichung von 1 °C beim Weich- oder Harttrocknen führt dazu, dass die kritischen Abmessungen nicht mehr eingehalten werden können – außerdem entsteht Unebenheit an den Kanten der Linien. Wir haben unsere DUV-Trocknungsleuchten so konzipiert, dass die Temperatur genau dort gehalten wird, wo es für den Prozess notwendig ist – und nicht dort, wo sich die Leuchte zufällig befindet.
Wichtig ist bei der Verarbeitung der Wafer die Wiederholgenauigkeit unter Belastung. Die Leuchte sorgt dafür, dass die Temperatur auf der gesamten Oberfläche der Wafer innerhalb von ±0,1 °C konstant bleibt. Das führt wiederum zu einer konstanten Entfernung der Lösungsmittel sowie zu einem einheitlichen Reaktionsverhalten des Fotolacks.
Das Ausgangsspektrum der Leuchte ist auf die Chemie des DUV-Fotolacks abgestimmt – kurzwellige sowie mittelwellige Strahlen werden genutzt. Die schnelle thermische Reaktion reduziert die Trocknungszeit, ohne dass die Kontrolle über das Spektrum beeinträchtigt wird.
Die Kompatibilität mit Reinräumen ist kein zusätzlicher Vorteil – sie ist bereits in der Konstruktion berücksichtigt. In Reinräumen der Klasse 1–100 entstehen keinerlei Partikel durch die Wärmequelle. Zudem funktioniert das System 24/7 ohne Unterbrechungen in validierten Anlagen.
Der Vorteil: Man erhält eine präzise Temperaturregelung beim Trocknen des Fotolacks – dadurch wird die Dispersion der kritischen Abmessungen sowie die damit verbundenen Nacharbeiten vermieden.
Durch die intelligente Konstruktion wird der Energieverbrauch reduziert. Zudem ermöglichen die langlebigen Emittoren weniger Ersatzteile und weniger Wartungsaufwand.
Es handelt sich dabei um eine bewährte Alternative, die den internationalen Standards für Halbleiterausrüstung entspricht – mit derselben thermischen Leistung, ohne dass man an einen bestimmten Hersteller gebunden ist.
Ein praktischer Hinweis: Die thermische Homogenität hängt von der Geometrie der Trockenkammer sowie davon ab, wie die Wafer in der Halterung positioniert sind.
Die besten Ergebnisse erzielt man, wenn die Leuchte perfekt zur spezifischen Trockenkammer passt und wenn die Trocknungsparameter für das neue Profil neu optimiert werden.
Wir stellen die notwendigen Daten sowie Anwendungshinweise bereit – sodass die Veränderungen messbar sind und kein Raten nötig ist.

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