<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Sicherheit on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/de/tags/sicherheit/</link>
		<description>Recent content in Sicherheit on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 28 Jul 2026 05:15:58 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/de/tags/sicherheit/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Sicherheitsabstand bei der Waferverschmelzung</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/de/posts/managing-thermal-radiation-in-wafer-heating-to-prevent-equipment-overheating/</link>
				<pubDate>Tue, 28 Jul 2026 05:15:58 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/de/posts/managing-thermal-radiation-in-wafer-heating-to-prevent-equipment-overheating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Sicherheitsabstand bei der Waferverschmelzung&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Hören Sie auf, Ihre Geräte zum Heizen zu verwenden – es gibt eine bessere Methode, um Wafern zu erhitzen.&lt;br&gt;&#xA;Das Problem bei der Halbleiterbearbeitung ist folgendes: Man muss die Wafer erhitzen – doch man möchte dabei nicht, dass die Innenteile der Maschine schmelzen.&lt;br&gt;&#xA;Die meisten Standardheizungen leiten die Energie einfach überallhin. Das ist unpraktisch. Die nutzlose Wärme sammelt sich am Gehäuse an – dadurch können die Bediener verbrannt werden, und das Gehäuse der Maschine verformt sich durch die Hitze. Das ist keine gute Lösung für ein Labor.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
