http://ir-heating-case.com/de/tags/post/ Recent content in Post on Infrared Heating Applications Hugo de Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800 http://ir-heating-case.com/de/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ Thu, 02 Jul 2026 09:27:36 +0800 http://ir-heating-case.com/de/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Heizgerät zum Trocknen von CMP Wafern"></p> <p>Im Fertigungsraum ist die nach dem CMP-Prozess verbleibende Waferoberfläche, auf der immer noch Mikrodroplets auf den strukturierten Flächen vorhanden sind, im Grunde genommen eine „gefährliche“ Situation – schließlich kann das zu Problemen führen. Wasserzeichen, erneute Ablagerungen sowie Zerstörung der Strukturen treten meist erst später auf – precisely dann, wenn es um die Lithografie- und Ätzvorgänge geht. Der Trocknungsheizer ist daher kein „nettes Extra“, sondern eine notwendige Komponente, bevor die Wafer den CMP-Prozess verlassen.</p> <p><strong>Was technisch wichtig ist:</strong><br> Wir haben den Trocknungsheizer für die nach dem CMP-Prozess verbleibenden Wafer um einen Quarz-Halogen-Strahler herum konstruiert. Dieser liefert Energie schnell und direkt, wobei die Ausgangsleistung stabil bleibt. Die thermische Homogenität über die gesamte Waferoberfläche wird auf ±0,1°C gehalten – gemessen an einem Produktionsrechner. So bleibt die thermische Qualität konstant, egal ob es sich um den ersten oder letzten Wafer handelt.</p>