AFM (Rasterkraftmikroskop) Heizung

Sun, 07 Jun 2026 04:08:22 +0800

Auf dem Fertigungsboden ist eine Drift von 0,1°C am AFM-Heizer nicht nur ein Messproblem. Sie kann den Softbake- und Hardbake-Prozess des Photoresists beeinflussen und das gesamte thermische Budget aus dem Gleichgewicht bringen. Wenn die thermische Gleichmäßigkeit abweicht, folgen auch Linienbreitenkontrolle und Defektdichte. Wir haben diesen AFM-Heizer so entwickelt, dass er die Temperatur dort hält, wo es die Physik vorgibt – direkt auf der Probe, über die Scanfläche hinweg und innerhalb von Reinräumen der Klassen 1–100.

Technisch relevante Aspekte
Der Heizer kombiniert ein kurzwellige Infrarot-Element mit einem quarzstabilisierten Wärmeleitweg. Dadurch erhalten Sie eine stabile, lokal begrenzte Erwärmung mit einer Gleichmäßigkeit von ±0,1°C direkt an der Wafer-Oberfläche. Das Design setzt beim Aufheizen und Einpendeln keine Partikel frei, sodass die Partikelzahl während lithographie-naher Prozesse konstant bleibt.
Wir dimensionieren die Fläche passend zur AFM-Integration, streben eine Betriebssicherheit rund um die Uhr an und sichern wiederholbare Sollwerte, die tausende thermische Zyklen ohne Drift überstehen. Die Leistungszufuhr wird an das Werkzeugetui angepasst, und die Schnittstelle ist für einen schnellen Wechsel ausgelegt – ohne Prozessunterbrechung.

Mikroskop) on Infrared Heating Applications

AFM (Rasterkraftmikroskop) Heizung