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		<title>Laboratorium on Infrared Heating Applications</title>
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				<title>Halbleiterlaborofenlampe</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Halbleiterlaborofenlampe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Bei der Temperaturkontrolle im Ofen zeigt sich kein Warnsignal, wenn es zu Abweichungen kommt. Stattdessen zeigen sich diese Abweichungen in Form von Schwankungen der kritischen Dimensionen nach der Belichtung, in Form eines „Schwanzes“ im Profil des Fotoleiters – oder in Form von Produktionsverlusten, die erst nach Tagen behoben werden können. Bei der Trocknung der Wafer wird die thermische Energie gezielt genutzt – wodurch eine schnelle Erhitzung sowie eine präzise Kontrolle möglich sind. Zudem lassen sich die Erhitzungsprofile von Charge zu Charge wiederholen.&lt;/p&gt;</description>
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