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		<title>Handschuhkasten on Infrared Heating Applications</title>
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				<title>Infrarotheizelement für Gloveboxen</title>
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				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 15:34:58 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Infrarotheizelement für Gloveboxen&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungsstätte führt die thermische Drift während des Trocknens der Wafer oder beim Erhitzen des Photoresists nicht nur zu Verzögerungen im Produktionsprozess. Sie verändert außerdem die kritischen Abmessungen der Wafer und verringert &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;somit&lt;/a&gt; die Ausbeute. In einer Schutzhülle – mit &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;einem&lt;/a&gt; kontrollierten Luftdruck und geringer Wärmemenge – müssen herkömmliche Heizelemente dafür sorgen, dass die Temperatur gleichmäßig bleibt, ohne dabei Partikel freizusetzen. Unsere Infrarotheizelemente sind genau für diese Anforderungen entwickelt worden.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler mit Quarzkapseln. Dadurch wird die Wärme schnell und gezielt abgegeben, wodurch die Emissivität konstant bleibt. So kann eine Temperaturgleichmäßigkeit auf Waferebene innerhalb von ±0,1°C gewährleistet werden. Die Reaktionszeit ist außerdem ausreichend schnell, um mit hohen Produktivitätsanforderungen Schritt zu halten. Die Leistung ist außerdem reproduzierbar – dadurch bleiben die Prozessparameter über alle Chargen hinweg konstant. Diese Heizelemente finden Verwendung in Reinräumen der Klasse 1–100. Dabei ist die Teilchenausgabe gering, und das Design sorgt dafür, dass während des normalen Betriebs &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;keine&lt;/a&gt; Partikel freigesetzt werden.&lt;/p&gt;</description>
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