Sušení on Infrared Heating Applications

Odhřívač na sušení destiček senzorů MEMS

Mon, 20 Jul 2026 11:46:38 +0800

Přestaňte hádat dobu sušení vašich desek: Proč je infračervené záření nejlepší řešení

Při sušení desek senzorů typu MEMS hrajete s vlhkostí nebezpečnou hru. Jeden špatný krok a povrchové napětí spojí ty křehké mikrostruktury dohromady. Nazýváme to „adhezí“ – je to noční můra pro každého, kdo se snaží dosáhnout vysoké úrovně produktivity.

Pokud budujete moderní výrobní zařízení, nemůžete spoléhat na staromódní metody. Potřebujete teplo, které funguje efektivně.

Jak udělat teplo „programovatelným“

Tradiční konvekční trouby jsou pomalé – trvá jim dlouho, než se ohřejí, a ještě déle, než vychladnou. Snažit se z nich získat přesné údaje je jako snažit se ovládat loď bez kormidla.

Energetická audita sušičky

Mon, 13 Jul 2026 17:53:16 +0800

Přestaňte se starat o kontaminaci při sušení ve vaší výrobní místnosti

Když provozujete čistou místnost třídy 100, neexistuje prostor pro chyby. Stačí jeden drobný zákal prachu nebo trocha plynů vycházejících z levného topného prvku a vaše křemíkové destičky jsou zničené. Je to noční můra.

Proto jsme přešli na IR lampy z vysoce čistého syntetického křemene.

Proč křemen opravdu funguje

Používáme spálenou křemičitou silici, z níž byly odstraněny téměř všechny nečistoty. Proč? Protože když se věci zahřejí – a myslím opravdu hodně – standardní materiály začnou rozpadat. Uvolňují kovové ionty nebo látky škodlivé pro životní prostředí přímo do vašeho procesu.

Ohřívač na sušení waferu po CMP

Thu, 02 Jul 2026 09:27:37 +0800

V prostorách určených k výrobě se wafer po zpracování pomocí CMP stále nachází v kapalině, na jejímž povrchu zůstávají mikrokapky. V podstatě jde o wafer, který je připraven k dalšímu zpracování. Problémy spojené s vodními skvrnami, opětovným nanášením látek a kolapsem struktury na povrchu waferu se obvykle projeví až později – právě v fázi litografie a leptání. Odsávací zařízení není jen „užitečným doplňkem“. Jedná se o poslední tepelnou kontrolní složku předtím, než wafer opustí ústřednu CMP.

Lampa na sušení při výrobě OLED

Tue, 23 Jun 2026 00:57:26 +0800

Při použití technologie OLED lithografie neexistuje žádný prostor na termální odchylky. I malá odchylka o ±0,5 °C může způsobit nesrovnalosti v rovnoměrnosti povrchu fotorezistu, stejně jako problémy s jeho strukturou během procesu leštění. Potřebujete tedy lampu na sušení, která zůstane stabilní – nikoli takovou, která se mění v závislosti na podmínkách okolí.

Co jsme vyrobili a proč Lampu na sušení OLED umístili jsme do halogenových zdrojů krátkovlnného infračerveného záření uvnitř kvartového obalu. To umožňuje rychlý a přímý přenos energie do fotorezistu s minimálním ohřevem podkladové desky. Rozložení topných elementů je takové, aby teplota v oblasti sušení zůstala v rozmezí ±0,1 °C po celé ploše čipu. Opakovatelnost výsledků je pak 0,05 °C mezi jednotlivými cykly.

Rychlé sušení destiček infračerveným zářením

Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800

Na lince není hodiny otázkou doporučení – jsou hranicí. Po spin-coatu je wafer pokryt tenkou vrstvou fotorezistu, která musí být kondicionována a vysušena před expozicí. Pokud není Soft Bake přesný, profil rezistu se posune. Nerovnoměrný Hard Bake po expozici znamená kolaps tolerance leptání. A pokud finální sušící krok zanechá stopy vody nebo uvolní částice, cena se projeví v ranní zprávě o výtěžnosti.

Vyvinuli jsme náš rychlý infračervený systém sušení waferů, abychom eliminovali proměnné v tepelných krocích. Nejde jen o ohřev – jde o opakovatelnou teplotní kontrolu na úrovni waferu, která zapadá do výrobního rytmu a rozpočtu čistých prostor.