<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Rychlý on Infrared Heating Applications</title>
		<link>http://ir-heating-case.com/cs/tags/rychl%C3%BD/</link>
		<description>Recent content in Rychlý on Infrared Heating Applications</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-case.com/cs/tags/rychl%C3%BD/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Rychlé sušení destiček infračerveným zářením</title>
				<link>http://ir-heating-case.com/cs/posts/rapid-wafer-drying-infrared/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 05:06:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-case.com/cs/posts/rapid-wafer-drying-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-case.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Rychlé sušení destiček infračerveným zářením&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na lince není hodiny otázkou doporučení – jsou hranicí. Po spin-coatu je wafer pokryt tenkou vrstvou fotorezistu, která musí být &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;kondicionov&lt;/a&gt;ána a vysušena před expozicí. Pokud není Soft Bake přesný, profil rezistu se posune. Nerovnoměrný Hard Bake po expozici znamená kolaps tolerance leptání. A pokud finální sušící krok zanechá stopy vody nebo uvolní částice, cena se projeví v ranní zprávě o výtěžnosti.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Vyvinuli jsme náš rychlý infračervený systém sušení waferů, abychom eliminovali proměnné v tepelných krocích. Nejde jen o ohřev – jde o opakovatelnou teplotní kontrolu na úrovni waferu, která zapadá do výrobního rytmu a rozpočtu čistých prostor.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
