Resist on Infrared Heating Applications

Části ohřívačů rezistencí pro extrémní UV záření (EUV)

Sun, 05 Jul 2026 13:15:47 +0800

Extrémní zahřívání pomocí UV záření: Pravda o inženýrství
Naše topné zařízení určená k zahřívání materiálů v procesu EUV lithografie jsou navržena tak, aby konkurovala těm nejlepším americkým a japonským produktům, které již znáte. Rozdíl? My dosahujeme stejné úrovně výkonu, ale bez zbytečných nákladů.

Nikdy nešetříme v oblasti fyziky. Při lithografii a zpracování materiálů potřebujete teplo, které je stabilní a reprodukovatelné v každém okamžiku. A právě to vám poskytujeme. Upravujeme hustotu výkonu, napětí a geometrii tak, aby lampa fungovala hodinu za hodinou bez jakýchkoliv problémů.

Lampa na vypalování rezistů pro hluboké UV záření (DUV)

Sun, 28 Jun 2026 06:08:52 +0800

V prostorách výroby není proces sušení fotorezisty „pauzou“. Jedná se o kontrolní bod, který nelze zfalšovat. I odchylka o 1 °C během měkkého nebo tvrdého sušení může vést k odchylkám v kritických rozměrech a ke zvýšené hrubosti hranic čar. Naše lampy na sušení fotorezistu typu Deep UV (DUV) jsou navrženy tak, aby udržovaly požadovanou teplotu – nikoliv tu, která je náhodně dosažena.

Důležitá je opakovatelnost procesu při práci s čipy. Lampa zajistuje rovnoměrnou teplotu na povrchu čipů v rozsahu ±0,1 °C, což přímo přispívá k konzistentnímu odstraňování rozpouštědel a k správnému chování fotorezistu.