Pare de adivinhar os tempos de secagem dos seus wafer: por que o IR é a solução ideal
Quando se trata de secar as pastilhas de sensores MEMS, está-se lidando com um problema perigoso relacionado à umidade. Um erro qualquer pode fazer com que as estruturas microscópicas se unam devido à tensão superficial. Chamamos isso de “adição”, e é um verdadeiro pesadelo para quem deseja manter um alto índice de produtividade.
Se você está construindo uma fábrica inteligente, não pode confiar em métodos antigos. É necessário usar um sistema de aquecimento eficaz.
Tornando o aquecimento programável
Os fornos convencionais são lentos. Levam muito tempo para aquecer e ainda mais tempo para esfriar. Tentar obter dados precisos com eles é como tentar dirigir um navio com leme quebrado.
É por isso que optamos pelo infravermelho (IR). O IR funciona como um interruptor simples de ligar/desligar o aquecimento. É instantâneo. Como é possível ajustar a potência com precisão, o processo de aquecimento torna-se apenas mais uma variável no seu código. Você pode conectar a saída diretamente ao seu PLC, garantindo que cada wafer receba o mesmo tratamento. É previsível e repetível. Além disso, funciona bem com todo o resto do seu sistema digital.
A magia do IR de onda curta
Utilizamos o IR de onda curta para o processamento de MEMS. Por quê? Porque ele não causa problemas. Ele atinge a superfície do wafer e elimina a umidade em segundos. Quando o wafer percebe que está sendo aquecido, a água já se foi – ou seja, os feixes de luz não têm tempo de causar danos às estruturas do wafer.
Mas atenção: uma alta densidade de potência é ótima para reduzir o espaço ocupado pelo equipamento, mas gera muito calor residual. Se você usar um sistema de alta potência, não negligencie o resfriamento do chassi. Caso contrário, seus componentes eletrônicos vão superaquecer, o que é um problema desnecessário.
Por que isso é melhor do que os métodos antigos
A maioria das pessoas está acostumada a aquecer o ar, na esperança de que a peça fique quente. Isso é perda de tempo. O IR evita esse intermediário e aquece diretamente o wafer.
É mais rápido. Além disso, evita que a sala limpa se torne uma “sauna”. Quando se adiciona um sistema de feedback com sensores IR, você não precisa mais adivinhar. Pode ver a temperatura real da superfície em tempo real e ajustar a potência conforme necessário.
Você não está mais apenas “executando um ciclo”. Na verdade, está controlando a física do processo.