Pada garis pengeluaran 300mm ini, anda akan dapat merasakan perubahan yang berlaku apabila proses pembakaran bahan bermula. Lebar garis tersebut berubah-ubah, dan selepas proses pengembangan, bahan tersebut akan menunjukkan kesan negatif. Apabila zon panas bertentangan dengan nilai yang ditetapkan, ia akan menyebabkan pembaziran bahan fotorezist, dan kualiti hasil pengeluaran akan terjejas. Kami telah membina sistem inframerah ini untuk menghalang masalah tersebut sebelum ia berlaku.
Apa yang penting dari segi teknikal:
배열 pemancar inframerah gelombang pendek ini direka untuk memastikan suhu permukaan wafer kekal seragam, pada tahap ±0.1°C, sepanjang proses pembakaran. Respons cepat sistem ini membolehkan suhu dikawal dengan tepat, tanpa melebihi batas yang ditetapkan. Zon panas ini sesuai digunakan dalam bilik bersih yang mempunyai kelas dari 1 hingga 100, dan ia tidak menghasilkan sebarang zarah semasa beroperasi. Sistem ini memberikan kebolehpercayaan 24/7, tanpa masa henti yang tidak dijangka, serta memastikan dimensi wafer tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain.
Mengapa ia penting dalam proses litografi:
Dalam proses litografi, proses pembakaran lembut bertujuan untuk menghilangkan pelarut dan menguruskan tekanan pada lapisan bahan fotorezist. Proses pembakaran keras pula bertujuan untuk memastikan imej terbentuk dengan sempurna, agar bahan fotorezist siap untuk proses etching atau implantasi. Dengan suhu yang seragam, tingkah laku bahan fotorezist akan kekal konsisten. Ini seterusnya mengurangkan keperluan untuk membaiki semula produk, serta mengurangkan sisa bahan yang tidak berguna.
Penggunaan tenaga juga berkurangan. Sistem ini hanya memanaskan kawasan yang diperlukan sahaja, jadi beban haba dapat dikawal dengan baik.
Aspek praktikal:
Zon panas ini mempunyai saiz yang kompak, dan ia perlu disepadukan ke dalam modul pengeluaran. Jarak antara wafer dan zon panas perlu dipastikan cukup, dan aliran udara perlu disusun sedemikian rupa agar selaras dengan sistem pengudaraan sedia ada.
Proses penyesuaian sistem ini sangat mudah – anda hanya perlu menetapkan kuasa lampu, kadar emisi, dan parameter PID mengikut keperluan bahan fotorezist yang digunakan. Setelah ditetapkan, profil suhu akan kekal konsisten. Namun, jika anda menukar jenis bahan fotorezist atau menggunakan lapisan yang lebih tebal, anda perlu menyesuaikan semula sistem tersebut untuk memastikan suhu tetap seragam.