OLED 리소그래피에서는 열 변동에 대한 여지가 전혀 없습니다. 단 0.5°C만큼의 오차가 생겨도 CD의 균일성이 손상되고, 에칭 과정에서 문제가 발생할 수 있습니다. 따라서 일정한 온도를 유지할 수 있는 건조 램프가 필요합니다.
우리가 만든 것과 그 이유 우리는 OLED 건조 램프를 석영 케이스 안에 넣어 단파 적외선을 방출하도록 했습니다. 이렇게 하면 포토레지스트에 빠르고 직접적인 에너지가 전달되며, 기판 자체는 거의 가열되지 않습니다. 히터 배열을 적절히 배치함으로써 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지할 수 있으며, 반복 작업 시에도 온도의 변동은 0.05°C에 불과합니다.
이 시스템은 클래스 1–100급 청정실에서 사용하기에 적합하며, 현장 모니터링을 통해 입자 생성이 전혀 없음을 확인했습니다. 온도는 교정된 온도계와 발광도 보정 기능을 사용하여 측정되며, 램프 본체가 아닌 포토레지스트 표면의 온도를 측정합니다.
OLED 공장에서 이 램프가 효과적인 이유 OLED 건조 및 포토레지스트 가열 과정에서는 열 관리가 매우 중요합니다. 너무 낮은 온도에서는 용매가 제대로 증발하지 않고, 너무 높은 온도에서는 가스가 발생하여 패턴링 과정에 문제가 생깁니다. 이 램프는 매번 정확한 온도를 유지함으로써 CD의 균일성과 측벽 각도를 안정적으로 유지할 수 있습니다.
또한 빠른 온도 상승 속도 덕분에 가열 시간이 단축되어 처리 속도가 향상됩니다. 높은 전기 에너지 전환 효율과 낮은 열량 덕분에 에너지 비용이 절감되고, 청정실 내로 유입되는 폐열도 줄어듭니다. 이 램프는 24/7 연속 작동에도 견딜 수 있으며, 실제 사용 데이터를 통해 수천 시간 동안 안정적인 성능을 보인다는 것이 입증되었습니다.
준비해야 할 사항 이 램프는 크기가 작지만, 성능을 안정적으로 유지하기 위해서는 전용 배기 장치와 깨끗한 전력 공급이 필요합니다. 기존 설비와 연동시키려면 기계적 및 제어 인터페이스 어댑터가 필요합니다. 전환하기 전에 커넥터, 마운팅 케이스, PLC 인터락 기능을 반드시 확인해야 합니다.
또한 포토레지스트 스택에 맞는 최적의 가열 프로파일을 설정한 후에는 그 값을 고정해 두어야 합니다.