제조 공정에서는 단 0.5도라는 미세한 온도 변화만으로도 치명적인 문제가 발생할 수 있습니다. 기존의 가열 장비들은 열 전달의 지연이나 가장자리 부분의 온도 변화를 해결하지 못해, 그로 인해 제품 품질에 영향을 미칩니다. 우리는 이러한 변수들을 없애기 위해 IC 처리용으로 소형 적외선 건조기를 개발했습니다.
적외선 가열: 수백 분의 1mm 급의 균일성과 재현성 이 장비는 사진감광제의 특성에 맞게 조정된 근적외선 방출체를 사용하여 에너지가 더 빠르게 전달될 수 있도록 합니다. 그 결과 웨이퍼 전체에 걸쳐 수백 분의 1mm 급의 균일성이 보장되며, 가열 과정 중 온도는 ±0.1°C 이내로 유지됩니다.
웨이퍼 표면에서 직접 온도를 측정하는 폐쇄형 센서와, 열이 흩어지는 것을 방지하는 반사형 챔버를 통해 일관된 성능을 얻을 수 있습니다. 따라서 반복 작업 시에도 온도 변동이 거의 없어, 정확한 가열 프로파일을 유지할 수 있습니다.
왜 이 방식이 효과적인가? 리소그래피 공정에서는 부드러운 가열과 강력한 가열 모두 동일한 방식으로 제어될 수 있어, 공정 시간을 단축하면서도 사진감광제의 품질을 유지할 수 있습니다. 세척 및 건조 과정에서는 저-k 재료가 과열되지 않으면서도 수분을 효과적으로 제거할 수 있습니다.
이 장비는 클래스 1–100 등급의 청정실에서도 안정적으로 작동할 수 있으며, 현장 모니터링을 통해 입자 발생이 전혀 없음이 확인됩니다. NIR 방식을 사용하기 때문에 방 전체가 아닌 특정 부위만 가열되므로 에너지 소비도 줄어듭니다. 이 장비는 24시간 연속 작동에 적합하며, 방출체의 수명은 5,000시간 이상이고 출력도 안정적입니다.
사용 시 고려해야 할 사항들 장비를 설치할 때는 24VDC 전원 공급원과 진동이 없는 깨끗한 작업대가 필요합니다. 이 건조기는 150mm 및 200mm 웨이퍼에 최적화되어 있으며, 300mm 웨이퍼를 사용할 경우에는 맞춤형 척과 kalibration 과정이 필요합니다. 먼저 자신의 웨이퍼에 맞는 설정을 확인한 후에야 사용할 수 있습니다.