בתהליך האפייה, שינויי הטמפרטורה אינם מוצגים על ידי אור אזהרה. במקום זאת, הם מתבטאים בשינויים בממדים החשובים של החומר לאחר החשיפה, בשינויים בתווי הפרופיל של החומר, או בירידה באיכות המוצר – דבר שדורש ימים רבים כדי לתקן אותו. בתהליכי ייבוש הוואפרים, האפייה הרכה והאפייה הקשה, הערכים התרמיים נקבעים מראש.
יצרנו את תנורי המעבדה שלנו לייצור שבבים על בסיס קרינת אינפרא-אדום בגלי קצר, מכיוון שהאנרגיה מגיעה ישירות לחומר ולתשתית הוואפר, במקום לחמם את דפנות התנור. דבר זה מאפשר שליטה מדויקת על הטמפרטורה, וכן פרופילי אפייה עקביים מלאטה לאטה.
מה חשוב באמת? אנו בוחרים מקורות קרינת אינפרא-אדום בגלי קצר עם תגובה מהירה ושליטה ספקטרלית מדויקת. כך ניתן להשיג אחידות תרמית ברמת הוואפר, בטווח של ±0.1°C. ההספק המרבי של המנורה מותאם לנפח התנור ולזרימת האוויר, כך שהמנורה מגיעה לטמפרטורה הרצויה במהירות ונשארת שם ללא שינויים.
המעטפת הקוורץ והחלקים הקרמיים מונעים יצירת חלקיקים, מה שמאפשר שימוש בתנורים בסביבות נקיות מסוג Class 1–100. המנורה פועלת 24/7, עם פלט יציב לאורך למעלה מ-5,000 שעות, עם שינוי בעוצמת הקרינה של פחות מ-5%).
למה זה עובד טוב בתהליך ההכנה לליתוגרפיה? בתהליך ההכנה לליתוגרפיה, האפייה הרכה קובעת את הטווח האופטימלי להסרת החומרים הממסים. אם הטמפרטורה נמוכה מדי, החומרים הממסים נשארים על הוואפר. אם הטמפרטורה גבוהה מדי, החומרים שמגנים על פרופיל החומר נעלמים. השימוש בקרינת אינפרא-אדום מאפשר להעלות את הטמפרטורה של הוואפר במהירות, ולאפשר פרופילי אפייה עקביים מלאטה לאטה.
בתהליכי אפייה קשים, המנורה שומרת על הפרופיל התרמי הרצוי, ללא אזורים חמים מדי, כך שניתן לשמור על שלמות המוצר ולשמור על איכות הייצור. כמו כן, צריכת האנרגיה יורדת, מכיוון שהמנורה מחממת את המוצר ישירות, ולא את גוף התנור.
פרטים פרקטיים שאי אפשר להתעלם מהם ההתקנה דורשת התאמה של המנורה לגאומטריה של המחזיר של התנור ולדפוס זרימת האוויר. אם ההתאמה לא נכונה, יהיו שינויים בין הקצוות של הוואפר. לפני ההתקנה, יש לוודא את המתח, החיבורים והמגבלות התרמיות של התנור.
בסביבות בעלות לחות גבוהה, יש לשמור על חלון המנורה נקי מטחורים, באמצעות מערכת סגירה וניקוי מקומי. כמו כן, יש לתכנן את התחזוקה בהתאם לזמן החיים של המנורה, כדי שלא להיתקל בזמן עצירה בלתי צפוי.