In der Fertigungshalle kann schon eine leichte Temperaturänderung von einem halben Grad ausreichen, um die kritischen Dimensionen der Wafer zu beeinträchtigen und die Ausbeute zu senken. herkömmliche Heizmethoden können diese Temperaturschwankungen nicht kompensieren – das führt zu Unregelmäßigkeiten in der Produktion. Wir haben daher einen kompakten Infrarot-Trockner entwickelt, der diese Schwankungen ausgleicht.
Infrarot-Heizen: Sub-Millimeter-Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit
Der Trockner nutzt Near-Infrared-Strahler, die auf die Absorption des Fotoresists abgestimmt sind. Dadurch dringt die Energie schneller ein und bleibt innerhalb bestimmter Grenzen. Dadurch wird eine Sub-Millimeter-Genauigkeit erreicht – die Temperatur bleibt während des Trocknungsprozesses bei ±0,1 °C konstant.
Wir nutzen dazu eine geschlossene Pyrometrie-Technologie direkt am Wafer sowie eine reflektierende Kavität, die verhindert, dass überschüssige Wärme entweicht. Die Wiederholgenauigkeit liegt bei wenigen Milligraden – dadurch bleibt das optimale Trocknungsprofil erhalten.
Warum es dort funktioniert, wo es wichtig ist
In der Lithografie ermöglicht dieses System sowohl den weichen als auch den harten Trocknungsprozess mit derselben Präzision. Dadurch wird die Bearbeitungszeit verkürzt, während die Struktur des Fotoresists erhalten bleibt. Bei der Reinigung und Trocknung wird Feuchtigkeit entfernt, ohne dass die dünnen Schichten überhitzt werden.
Der Trockner eignet sich für Reinräume der Klasse 1–100. Er erzeugt keine Partikel – das wird durch kontinuierliche Überwachung bestätigt. Der Energieverbrauch ist gering, da das Infrarotlicht nur das Zielobjekt erwärmt, nicht den gesamten Raum. Der Trockner ist für 24/7-Betrieb ausgelegt; die Lebensdauer der Strahler beträgt mehr als 5.000 Stunden, und die Leistung bleibt stabil.
Praktische Hinweise zur Planung
Für die Installation ist eine spezielle 24-V-DC-Stromversorgung sowie ein vibrationsisoliertes Arbeitsfeld erforderlich, damit die Ausrichtung des Strahlungsbereichs konstant bleibt. Der Trockner ist für Wafer von 150 mm und 200 mm Durchmesser optimiert. Für Wafer von 300 mm Durchmesser wird ein spezieller Halter sowie eine Kalibrierungsprozedur benötigt.
Führen Sie zunächst eine kurze Qualifizierung durch, um die Eigenschaften Ihrer jeweiligen Waferstrukturen zu ermitteln – danach können Sie das Trocknungsverfahren festlegen.